納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLitho AG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級(jí)的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計(jì)劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項(xiàng)目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。
目標(biāo)應(yīng)用：
EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開(kāi)發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)和其他應(yīng)用，并有可能擴(kuò)展到生物技術(shù)，納米流體技術(shù)和其他納米技術(shù)應(yīng)用。
作為聯(lián)合解決方案的一部分，SwissLitho的NanoFrazor系統(tǒng)將用于創(chuàng)建壓印母版。與傳統(tǒng)方法相比，該新技術(shù)具有較好的精度打印3D結(jié)構(gòu)的*能力。然后，將使用EVG的HERCULES NIL系統(tǒng)，通過(guò)該公司專(zhuān)有的大面積納米壓印SmartNIL納米壓印技術(shù)，以高成本效益，高成本效益地創(chuàng)建工作模板。
EV Group公司技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士指出：“ SwissLitho的NanoFrazor解決方案與EVG的SmartNIL納米壓印技術(shù)高度互補(bǔ)。我們可以共同為光子學(xué)和其他涉及3D結(jié)構(gòu)圖案的應(yīng)用提供完整的NIL納米壓印解決方案，為兩家公司提供了巨大的機(jī)會(huì)為了擴(kuò)大我們的客戶(hù)群和市場(chǎng)范圍，我們的NILPhotonics能力中心將成為對(duì)此聯(lián)合解決方案感興趣的客戶(hù)的第一聯(lián)系點(diǎn)，我們將在此提供可行性研究，演示和中試生產(chǎn)。
技術(shù)的仔細(xì)研究NanoFrazor背后的技術(shù)是熱掃描探針光刻技術(shù)，該技術(shù)是在蘇黎世的IBM Research發(fā)明的，并被SwissLitho AG收購(gòu)。這種無(wú)掩膜的直接寫(xiě)入光刻方法涉及在圖案化之前將*的熱敏抗蝕劑旋涂到樣品表面上。然后使用加熱的超銳利頭端來(lái)分解和蒸發(fā)抗蝕劑，同時(shí)檢查書(shū)寫(xiě)的納米結(jié)構(gòu)。然后可以使用剝離，蝕刻，電鍍，模制或其他方法將所得的任意抗蝕劑圖案轉(zhuǎn)移到幾乎任何其他材料中。
SwissLitho執(zhí)行官Felix Holzner博士說(shuō)：“我們開(kāi)發(fā)了NanoFrazor產(chǎn)品線(xiàn)，以提供一種高性能，價(jià)格合理的替代產(chǎn)品，并擴(kuò)展了昂貴的電子束光刻系統(tǒng)。”“該技術(shù)允許一步制造具有多個(gè)'級(jí)別'的母版。特別是，與傳統(tǒng)的電子束或灰度光刻方法相比，具有納米精度的3D結(jié)構(gòu)可以更容易地制造，并且保真度更高。我們期待著與客戶(hù)合作，將我們的技術(shù)與EVG在奧地利NILPhotonics納米壓印技術(shù)中心的成功SmartNIL納米壓印工藝相結(jié)合。”
HERCULES NIL納米壓印設(shè)備將EVG在NIL納米壓印，抗蝕劑處理和大批量制造解決方案方面的廣泛專(zhuān)業(yè)知識(shí)結(jié)合到單個(gè)集成系統(tǒng)中，該系統(tǒng)可為200毫米晶圓提供高達(dá)40 wph的吞吐量。該系統(tǒng)的可配置模塊化平臺(tái)可容納多種壓印材料和結(jié)構(gòu)尺寸，從而使客戶(hù)在滿(mǎn)足其制造需求時(shí)具有更大的靈活性。此外，其制造多次使用的軟郵票的能力有助于延長(zhǎng)原版烙印模板的使用壽命。
使用SwissLitho的NanoFrazor制造的3D計(jì)算機(jī)生成的全息圖的納米壓印圖章的形貌圖像。使用EV Group的HERCULES NIL納米壓印光刻系統(tǒng)，此類(lèi)印章可用于大量復(fù)制3D結(jié)構(gòu)。
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