當(dāng)前位置：首頁(yè) > 技術(shù)文章
位移傳感器作為工業(yè)自動(dòng)化與精密制造的核心組件，其非接觸式高分辨率近距離測(cè)量技術(shù)正推動(dòng)制造業(yè)向智能化、高精度方向演進(jìn)?；陔娙?、激光、電磁等原理的非接觸式傳感器，通過(guò)消除機(jī)械磨損與環(huán)境干擾，實(shí)現(xiàn)了亞微米級(jí)位移測(cè)量，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體加工、航空航...
勻膠機(jī)通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)基底產(chǎn)生的離心力，實(shí)現(xiàn)了膠體溶液在微納結(jié)構(gòu)表面的均勻涂覆，在微陣列電極制備與生物分子功能化中展現(xiàn)出價(jià)值。在微陣列電極領(lǐng)域，勻膠機(jī)可精確控制導(dǎo)電聚合物、水凝膠等材料的成膜厚度與均勻性。例如，在制備微陣列化水凝膠電極時(shí)，勻膠機(jī)將水凝膠前驅(qū)液均勻鋪展在微陣列硅片基底上，結(jié)合真空干燥與退火處理，可顯著降低水凝膠與基底間的結(jié)合力，從而獲得規(guī)則、完整的微米級(jí)四棱柱狀或金字塔狀導(dǎo)電水凝膠陣列。這種結(jié)構(gòu)可提升電極的電化學(xué)活性表面積，增強(qiáng)HER（析氫反應(yīng)）與OER（析氧反應(yīng)）...
硅片作為半導(dǎo)體、光伏及微電子等領(lǐng)域的核心材料，其厚度精度直接影響產(chǎn)品質(zhì)量與性能。不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)厚度測(cè)量提出多樣化需求，催生出一系列精準(zhǔn)高效的測(cè)量技術(shù)。本文結(jié)合技術(shù)原理與實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景，系統(tǒng)闡述多種硅片厚度測(cè)量方法。一、接觸式測(cè)量：機(jī)械與壓電技術(shù)的結(jié)合1.機(jī)械測(cè)微計(jì)法通過(guò)螺旋測(cè)微器或千分尺對(duì)硅片進(jìn)行接觸式測(cè)量，操作簡(jiǎn)單直觀。然而受限于測(cè)量點(diǎn)數(shù)量，僅適用于抽檢，且可能因壓力導(dǎo)致表面微損傷，適用于低精度要求的場(chǎng)合。2.電感測(cè)微儀利用電感線圈對(duì)距離變化的敏感性，通過(guò)接觸式測(cè)頭檢測(cè)厚度變...
在半導(dǎo)體制造、光伏產(chǎn)業(yè)等精密制造領(lǐng)域，硅片厚度是影響芯片性能、太陽(yáng)能電池效率的核心參數(shù)之一。硅片厚度測(cè)量?jī)x作為一種高精度檢測(cè)工具，其正確的操作方法直接關(guān)系到測(cè)量數(shù)據(jù)的可靠性。本文從基礎(chǔ)到進(jìn)階，系統(tǒng)解析測(cè)量?jī)x的操作要點(diǎn)，助力工程師快速掌握這一關(guān)鍵技術(shù)。一、測(cè)量前的準(zhǔn)備工作1.清潔與環(huán)境控制①使用無(wú)塵布和酒精擦拭硅片表面，避免指紋、油漬等污染影響測(cè)量精度。②確保實(shí)驗(yàn)室溫度穩(wěn)定在（23±2）℃、濕度≤60%，防止熱脹冷縮導(dǎo)致誤差。2.設(shè)備預(yù)熱與校準(zhǔn)①開(kāi)機(jī)后等待10-1...
3D劃痕儀作為材料表面力學(xué)性能分析的核心工具，其核心功能在于通過(guò)精密力學(xué)加載與三維形貌成像的協(xié)同作用，實(shí)現(xiàn)涂層附著力、表面硬度等參數(shù)的量化評(píng)估。本文從機(jī)械結(jié)構(gòu)、信號(hào)采集與數(shù)據(jù)處理三方面解析其工作原理。一、機(jī)械結(jié)構(gòu)：多軸聯(lián)動(dòng)與模塊化設(shè)計(jì)的協(xié)同3D劃痕儀采用高精度XYZ三軸運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，其中Z軸配備閉環(huán)控制加載系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)恒定力、遞增力或臺(tái)階增力加載模式。劃痕頭通過(guò)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)器提供亞納米級(jí)位移精度，加載力范圍覆蓋1000mN至200N，滿足從納米涂層到宏觀材料的測(cè)試需求。設(shè)備支持快...
在現(xiàn)代半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域，光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)精密圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵設(shè)備。其中，接觸式光刻機(jī)以其特殊的工藝和高精度，在芯片制造等行業(yè)發(fā)揮著重要作用。那么，它的精度究竟有多高呢？接觸式光刻機(jī)的精度通常以線寬和分辨率來(lái)衡量。線寬指的是能夠清晰制造出的最小線條寬度，而分辨率則是光刻機(jī)能夠分辨和復(fù)制出的最小特征尺寸。一般來(lái)說(shuō)，高級(jí)的設(shè)備能夠達(dá)到亞微米甚至納米級(jí)別的精度。在早期，隨著技術(shù)的發(fā)展，設(shè)備的線寬精度從幾十微米逐步提升到了微米級(jí)別。這一進(jìn)步使得芯片制造能夠在更小的尺寸上集成更多的電路...